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中国科学技術省大臣万鋼氏来日、在日華人代表者と座談 |
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原稿＆写真： ＣＨＢＷ Mr. ＣＫ |
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２００９年５月２４日午前、中国駐日大使館本館にて、在日華人科学技術者団体、企業家、及び中国系技術型企業からの代表２０名近くが集まった。日中韓共同研究会談出席のために来日した中国科学技術省大臣万鋼氏を大使館に招いて開催される、座談会に参加するためである。
午前１０時前、万鋼氏一行が大使館に到着し、関係者一同の拍手に迎えられた。大使館孔公使が司会として座談会の趣旨を説明し、日本新華僑華人会（NOCAJ）呉智深会長、在日科学技術者連盟（ACSEJ）楊克倹会長、全日本中国人博士協会（CASEJ）李磊会長等、在日関係者代表らの発言が続き、最後に万鋼氏はスピーチを行った。その内容は多岐に渡ったが、万氏はその中で、金融不況への対策やハイテク産業に関連し、各地に設けられている「国家ハイテク産業開発区は比較的に受けた影響が少なく、今後も発展し成長し続けるであろう」と述べた。
座談会には中国駐日本大使館阮湘平科学技術参事官をはじめ、大使館科学技術部門のスタッフも多数参加し、中国通信業界において著名な技術型大手企業「華為」や「中興」の日本支社のトップも出席し発言した。なお、本サイト編集長張輝はＡＣＳＥＪ日中法研会会長として出席した。
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